纽约州立大学研究基金会起诉日本JSR
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中国知识产权律师网从路透社获悉,近日,一份法庭文件显示,纽约一大学研究基金会对日本芯片材料制造商JSR 提起诉讼,指控JSR未经许可将其技术商业化。
JSR是一家日本顶级的光阻剂制造商,光阻剂是一种用于芯片制造的化学品,其美国子公司Inpria制造用于极紫外(EUV)光刻的金属氧化物抗蚀剂,用于生产先进芯片。
纽约州立大学研究基金会表示,其研究人员在氧化锡金属光刻胶方面的研究取得了进展,而Inpria正在未经许可将其知识产权商业化。
JSR对路透社表示,该公司认为该诉讼毫无根据,内部调查并未发现与Inpria有关的任何不当行为。
“Inpria是一所大学的前身,在金属氧化物的学术研究方面有着深厚的根基,可以追溯到20年前,”JSR说。
去年6月,JSR同意由一家政府基金收购,这一交易令人意外,一些行业高管质疑政府干预的必要性。
该研究基金会表示,它正在寻求初步禁令,以防止JSR将有争议的专利转让给日本投资公司(JIC)。据悉,其知识产权的价值已达到24亿至43亿美元。(编译自:路透社)
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