日本光刻胶专利简析

光刻胶自1959年被发明以来一直是半导体核心材料，随后被改进运用到PCB板的制造，并于20世纪90年代运用到平板显示的加工制造。在光刻工艺中，光刻胶是利用光化学反应经曝光、显影、刻蚀等工艺将所需要的微细图形从掩膜版转移到待加工基衬底上的有机化合物，是集成电路和平板显示两大产业光刻工艺的重要部分，也是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一。

光刻胶行业具有极高的行业壁垒，因此其行业呈现寡头垄断的局面。光刻胶行业长年被日本等发达国家的专业公司垄断。整个光刻胶市场格局来看，日本是光刻胶行业的巨头集中营。日本企业重视向半导体产业链纵深发展，积极研发光刻胶，目前日本JSR、东京应化、日本信越与富士电子材料市占率总计占据了全球市场72%的份额，并且高分辨率的KrF和ArF光刻胶核心技术及产品也基本被日本和美国企业所垄断，其中，日本的企业中包括日立化成、三菱化成、旭化成、住友电木、住友化学、陶氏化学、JSR株式会社、信越化学、东京应化工业和富士胶片等。

光刻胶技术按大分类分为光刻胶构成要素技术、光刻胶制造技术、光刻胶用途技术。光刻胶构成要素技术由原材料技术和层构成技术、相移等的图案构成技术构成。光刻胶制造技术分为胚料工艺流程相关的制造技术、光刻胶工艺流程相关的制造技术。光刻胶用途技术有保管技术、搬运技术、定位和固定技术、半导体以及液晶面板等方面的应用领域的相应技术。此外，与曝光机相关的技术，包括光曝光（光光刻胶）、EUV曝光（EUV光刻胶）、X光曝光（X光光刻胶）、粒子线曝光（粒子线（电子束线）光刻胶）等相应技术。

下面，再针对日本JSR、东京应化、日本信越和富士电子材料四大日本光刻胶企业，我们抽取出几个重要分类，来看看这几家日本光刻胶企业历来在光刻胶方面的专利申请情况。

从上述数据可以看出，这四大日本光刻胶企业在光刻胶的各个细分领域都有相当数量的光刻胶专利技术储备，尤其是日本信越和富士电子材料，在光刻胶的各个技术领域都布局了大量的专利技术。

如今，在以存储器为中心的半导体市场销售低迷的情况下，在日本本土半导体光刻胶领域则呈现出另一番欣欣向荣的市场局面。日本拥有世界上最完整的半导体产业链，而且在上游的半导体设备和材料方面，日本厂商也有着极高的市占率，其行业集中度高，龙头企业市场份额高，行业利润水平高，且暂无潜在替代产品。日本作为光刻胶大国，占据了全球极大比例的市场份额，其技术壁垒之坚实，也依然非他国在短期内可以效仿和攻破。