日本光刻胶专利简析

光刻胶自1959年被发明以来一直是半导体核心材料，随后被改进运用到PCB板的制造，并于20世纪90年代运用到平板显示的加工制造。在光刻工艺中，光刻胶是利用光化学反应经曝光、显影、刻蚀等工艺将所需要的微细图形从掩膜版转移到待加工基衬底上的有机化合物，是集成电路和平板显示两大产业光刻工艺的重要部分，也是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一。 光刻胶行业具有极高的行业壁垒，因此其行业呈现寡头垄断的局面