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应用相同物理学原理的技术方案的创造性判断应特别注意具体技术手段和技术效果的差异
近日，最高人民法院知识产权法庭审结一起发明专利申请驳回复审行政纠纷案。该案判决认为，在涉及物理学原理发明的专利授权案件中，确定技术方案的创造性时应当正确对待物理学原理与该原理的技术应用之间的联系与区别，避免无视具体技术手段和技术效果的差异而简单以物理学原理一致为由否定技术方案的创造性。 该案涉及专利申请人为郭某某和姜某、名称为“一种获取转子的不平衡量的方法”的发明专利申请（以下简称本申请）。案涉
发布时间：2024.03.20 -
继起诉 Facebook 之后，黑莓再次指控 Snap 侵犯其专利通讯技术
黑莓正打算起诉社交新贵 Snap 在旗下 Snapchat 应用中使用该公司已申请专利的通讯技术。 对此，Snap公司代表拒绝置评。 黑莓首席执行官程守宗近来一直在努力寻找额外的收入来源，因为投资者对公司的核心业务——安全软件——的增长率感到担忧。这促使黑莓从自己的无线技术和消息传递等专利中看到了更多授权许可交易，乃至诉讼的机会。 值得一提的是，就在上个月，黑莓刚向 Facebook 提起
发布时间：2018.04.08 -
销售合同中的保密条款是否构成使用公开？
国家知识产权局专利复审委员会 李礼 吕东 【理念阐述】 根据现行专利法的规定，现有技术应当是在申请日以前处于公众能够获得的状态，并包含有能够使公众从中得知实质性技术知识的内容。应当注意的是，处于保密状态的技术内容不属于现有技术。所谓保密状态，不仅包括受保密规定或协议约束的情形，还包括根据其商业关系、或可以确定的事实和证据、或诚实信用原则或商业习惯上被认为应当承担保密义务的情形，即默示的保密情形
发布时间：2018.11.21 -
实际解决的技术问题在评价创造性中发挥重要作用
国家知识产权局专利复审委员会 董海鹏 何炜 【理念阐述】 区别特征体现了发明对现有技术作出的创新，但是评价发明是否具备创造性，并不取决于区别特征本身是否显而易见或技术方案表面是否相似，而要判断发明通过引入区别特征而完成的技术任务是否给所属领域带来贡献和价值。这一判断中，发明实际解决的技术问题在其中发挥着重要作用。首先，认定实际解决的技术问题要以准确体现发明的智慧贡献为要求，同时还要考虑发现该
发布时间：2018.12.28 -
2018年全球半导体技术发明专利排行榜（TOP 100）
2018年全球半导体技术发明专利排行榜（前100名） 对2018年公开的全球半导体技术发明专利申请数量进行统计排名，入榜前100名企业主要来自8个国家和地区：日本41家、中国22家、美国18家、韩国9家，德国、荷兰、瑞士和法国分别有4家、3家、2家和1家企业。前三名企业在该领域的专利布局主要围绕半导体芯片、半导体封装、基板、发光元件、晶体管、显示装置、有机材料等技术分布，其中Samsung以
发布时间：2019.04.15 -
历经两年，“保鲜湿面”专利侵权案尘埃落定
近日，最高人民法院审理了上诉人北京金田麦国际食品有限公司（下称金田麦公司）与被上诉人镇江市知识产权局及第三人江苏新顺福食品有限公司（下称新顺福公司）专利行政纠纷一案，最高人民法院经审理认为，一审判决认定事实清楚，适用法律正确，应予维持，驳回了金田麦公司全部诉讼请求。 引发专利诉讼 金田麦公司是一家集研发、生产、销售为一体的现代化股份制食品企业，注册成立于2006年，依法享有“保鲜湿面制造技术
发布时间：2019.12.06 -
审慎评判技术方案的关键技术手段
国家知识产权局专利局复审和无效审理部 姜小薇 【弁言小序】 新修改的《专利审查指南》当中新增加了如下规定：“在审查意见通知书中，审查员将权利要求中对技术问题的解决作出贡献的技术特征认定为公知常识时，通常应当提供证据予以证明。”新增上述内容的目的，无外乎是从保护申请人权益的角度出发，以《专利审查指南》的明文规定，要求审查员以审慎的态度评判申请人自我认定的关键技术手段。本文通过一个具体的复审案例，对
发布时间：2019.11.25 -
光电技术发明审查部创新业务指导模式
近日，国家知识产权局专利局光电技术发明审查部（下称光电部）着眼于国家知识产权局专利局专利审查协作北京中心福建分中心（下称福建分中心）的特点，充分结合初创京外专利审查协作中心的实际需求，开展光电技术领域业务指导工作，保障同领域审查标准执行一致，促进审查质量和审查效率提升。 随着国家知识产权战略的深入实施，我国专利申请数量不断增长。与此同时，国家知识产权局专利审查员数量不断增多，人员规模不断扩大
发布时间：2019.11.26 -
日本光刻胶专利简析
光曝光（光光刻胶）、EUV曝光（EUV光刻胶）、X光曝光（X光光刻胶）、粒子线曝光（粒子线（电子束线）光刻胶）等相应技术。 下面，再针对日本JSR、东京应化、日本信越和富士电子材料四大日本光刻胶企业，我们抽取出几个重要分类，来看看这几家日本光刻胶企业历来在光刻胶方面的专利申请情况。 从上述数据可以看出，这四大日本光刻胶企业在光刻胶的各个细分领域都有相当数量的光刻胶专利技术储备，尤其是日本信越和富士
发布时间：2020.02.18 -
怎么确定权利要求中的“特定技术特征”？
单一性问题，对专利代理师在日常撰写上的要求更高，除了考虑权利要求中的必要技术特征外，对于多套独立权利要求的撰写，更需要注意“特定技术特征”的设定和撰写。 在专利实质审查阶段中，有时遇到的关于单一性的意见通常是关于“分案”的意见，但有时也会遇到如下意见：对于申请文件中的多套权利要求，经过检索，认为对比文件公开了第一套独立权利要求中的某个技术特征，并认为该技术特征是本领域的惯用技术手段，因此多套
发布时间：2020.04.16
