侵害集成电路布图设计专有权应以接触为要件

内容提要：集成电路布图设计是制造芯片的起点，保护布图设计对发展和提升我国的芯片技术，打破西方国家对我国芯片关键技术“卡脖子”问题，具有重要意义。布图设计专有权通过登记取得，但登记仅对布图设计的内容进行确定，而不具有公开布图设计的作用，如此一来，布图设计专有权在性质上属于非公示权利边界的知识产权类型，鉴于此，判定侵害布图设计专有权须以举证证明被控侵权人接触了权利人的布图设计为要件。接触包括直接接触和推定接触。由于布图设计登记制度存在缺陷和弊端，应从要求申请人明确布图设计的独创性、提交清晰的电子版布图设计等方面进行立法修改与完善。

引言

当今世界，信息技术发展水平的高低是衡量一个国家工业化水平高低的重要标志，而微电子技术是支撑信息技术发展的基础,在微电子技术中，集成电路（俗称芯片）居于核心地位。如此一来，集成电路产业技术水平的高低，成为衡量一个国家工业化水平先进与否的重要标志。与欧美发达国家相比，我国目前集成电路产业的整体水平还非常低。比如，2021年，美国公司占据了全球芯片市场总销售额的54%，而中国仅占比4%；[1]2022年，美国公司总销售占比为48%，中国占比则仅为7%，[2]明显落后于美国。Gartner发布的2021年十大半导体企业榜单中，美国公司占据7席，中国0席；[3]2022年，美国公司占据4席，中国0席。[4]芯片设计离不开设计软件EDA，全球前三大EDA企业均为美国企业。全球最重要的半导体设备光刻机是荷兰生产，但设备所需的核心零部件是美国公司生产。硅片是制作集成电路的重要材料，日本是硅片生产材料的重要提供国家。[5]

由上可见，我国集成电路技术与西方发达国家还存在较大差距，并缺少核心技术。为满足微电子技术快速发展的需要，我国每年进口的芯片产品的数额已超过原油，居于我国进口产品的首位。根据海关总署数据，2022年我国进口芯片总额为4156亿美元，占全球芯片总额的72.5%。[6]集成电路技术整体水品低，已经成为掣肘我国工业化水平进一步提升的瓶颈。与之同时，全球集成电路产业受到地缘政治的较大影响，以美国为首的西方国家对我国芯片产业的发展进行封锁、打压和限制，这对我国芯片技术水平的提高造成极大阻碍，我国集成电路产业面临严重的“卡脖子”问题。因此，大力提升集成电路产业的研发与制造能力，是我国当前急需解决的难题。集成电路产业包括设计、制造、封装、测试等环节，其中，布图设计是起点，制造、封装、测试是布图设计的实现，因此，保护布图设计所涉及的知识产权，对保护集成电路产业来说具有重要意义。

我国《集成电路布图设计保护条例》（以下简称《条例》）专门规定了“集成电路布图设计专有权”（以下简称布图设计专有权）制度，尽管《条例》已实施二十多年，但在处理侵害布图设计专有权纠纷案件的司法实践中，人们仍对一些基础性的问题还存在着较大争议，比如，登记能对布图设计专有权的保护范围起到公示作用吗？登记的纸质、电子、芯片三种载体所反映的布图设计不一致时该如何确定布图设计的保护范围？布图设计独创性的举证责任应如何确定与分担？侵害布图设计专有权是否应以接触为要件等？澄清这些基础性问题，对于更好的保护布图设计专有权，鼓励并促进布图设计创新具有重要意义，鉴于此，本文拟就侵害布图设计专有权是否应以接触为要件进行深入研究，以期对侵害布图设计专有权案件的裁判和相关立法的完善提供参考与借鉴。

一、问题提出：侵害布图设计专有权是否应以接触为要件？

布图设计是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。布图设计专有权是指民事主体对其创作的具有独创性的布图设计所享有的排他性专有权利。布图设计专有权包括复制权和商业利用权两项权利。复制权是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的权利。商业利用权是指为了商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的权利。他人未经许可实施受布图设计专有权控制的复制行为和商业利用行为，就属于侵害布图设计专有权的行为，应依法承担相应的法律责任。

自《条例》2001年10月1日开始实施，已有二十多年，但实践中发生侵害布图设计专有权的案件相对较少，由于案件少，人们对处理该类案件几乎无先例可循，从而导致对许多问题的处理尚处于探索阶段。比如，在实务中，判定侵害布图设计专有权是否应以被控侵权行为人接触权利人的布图设计作为其中一个构成要件，还存在着不同观点。在泉芯电子技术（深圳）有限公司（以下简称泉芯公司）诉被告南京微盟电子有限公司（以下简称微盟公司）、深圳市锦汇鑫科技有限公司（以下简称锦汇鑫公司）侵害布图设计专有权纠纷一案中，[7]法院判决认定，泉芯公司将名称为QX2304的布图设计向国家知识产权局进行了登记，登记号为BS.09500630.3，该布图设计的创作完成日为2009年1月15日，首次投入商业利用日为2009年6月10日，基于泉芯公司对其布图设计的独创性说明及举证，以及微盟公司反驳其布图设计具有独创性的抗辩及举证，通过司法鉴定能够证明泉芯公司主张的其登记的布图设计有八个区域部分具有独创性。2012年3月9日，泉芯公司在锦汇鑫公司住所地购买了由微盟公司生产、销售的被控侵权产品（芯片），该芯片有七个区域部分的布图设计与泉芯公司涉案要求保护的具有独创性区域部分的布图设计实质性近似，因此，微盟公司以复制、销售方式侵犯了泉芯公司对上述七个区域部分的布图设计所享有的专有权，责令微盟公司向泉芯公司赔偿经济损失及维权合理费用300万元。因锦汇鑫公司举证证明其销售的被控侵权产品（芯片）有合法来源，故驳回泉芯公司对锦汇鑫公司提出的侵害布图设计专有权的指控。从该案判决来看，认定行为人侵害布图设计专有权，并未考量该行为人接触了权利人的布图设计，即认定行为人构成侵害布图设计专有权，未考虑以接触为要件。

在苏州赛芯电子科技有限公司（以下简称赛芯公司）诉深圳裕昇科技有限公司（以下简称裕昇公司）、户财欢、黄建东、黄赛亮侵害布图设计专有权纠纷一案中，[8]法院判决认定，2012年4月22日，赛芯公司在国家知识产权局进行了布图设计登记，登记号为BS.12500520.2,该布图设计的创作完成日为2011年8月1日，首次投入商业利用日为2011年12月20日。涉案布图设计在登记前已投入商业利用，赛芯公司主张其布图设计的6个区域部分具有独创性。户财欢曾为赛芯公司的员工，而裕昇公司没有提供证据证明被控侵权布图设计的来源，因此能够认定裕昇公司接触了赛芯公司的布图设计，后户财欢成立准芯微公司，该公司与裕昇公司共同生产销售JA5088被控侵权的芯片产品。JA5088芯片的6个区域的布图设计与赛芯公司的6个区域部分的布图设计相同或实质性相同，裕昇公司生产、销售JA5088芯片的行为，侵害了赛芯公司的布图设计专有权。黄建东、黄赛亮作为准芯微公司的股东在案件审理期间注销准芯微公司，应与裕昇公司、户财欢共同向赛芯公司赔偿经济损失50万元。从该案判决来看，认定行为人侵害布图设计专有权，考量了该行为人接触了权利人布图设计的要件，即认定行为人构成侵害布图设计专有权，考虑以接触为要件。

从上述两宗判定侵害布图设计专有权纠纷典型案例来看，一宗以考量行为人接触权利人的布图设计作为侵权构成要件，另一宗则未考量行为人接触权利人的布图设计作为侵权构成要件，由此可见，在司法实践中，人们对侵害布图设计专有权是否应以接触作为构成要件，还存在争议，弄清楚该问题，对于准确把握布图设计专有权的性质，捋清侵害布图设计专有权的构成要件，妥当处理侵害布图设计专有权纠纷案件，具有重要意义，因此，该问题颇值得认真研究。

二、判断是否以接触为要件须考量布图设计登记行为的性质

（一）布图设计受专有权保护的实质和形式条件

受专有权保护的布图设计应当具有实质要件和形式要件。从实质要件来说，受专有权保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计应当是创作者通过自己的智力劳动所获得的成果，并且在其创作时该布图设计对布图设计的创作者和集成电路制造者来说，不属于公认的常规设计。布图设计具有独创性包括三种情形，其一、布图设计在整体上具有独创性；其二、布图设计部分具有独创性；其三、布图设计由常规设计组合而成，其组合作为整体体现出独创性。[9]

从形式要件来说，民事主体创作完成布图设计后，并不能基于创作自然取得布图设计专有权，其必须要履行登记程序才能获得该项权利。《条例》第八条规定，布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生，未经登记的布图设计不受本条例保护。根据该条规定，只有经过登记的布图设计才能获得专有权保护，即登记是产生布图设计专有权的法定条件。

由上可见，我国《条例》对布图设计专有权采用“独创性(实体要件)+登记（形式要件）”的保护模式，当满足这两项条件时，权利人对其布图设计享有排他性专有权。同时，登记的布图设计成为确定布图设计专有权保护范围的依据。

（二）布图设计登记的具体规定

《条例》和《集成电路布图设计保护条例实施细则》（以下简称《实施细则》）对如何进行布图设计登记做出规定，梳理《条例》和《实施细则》关于布图设计登记的规定，有利于帮助我们清晰界定布图设计登记行为的性质。

《条例》第十六条规定，申请布图设计登记，应当提交：(一)布图设计登记申请表；(二)布图设计的复制件或者图样；(三)布图设计已投入商业利用的，提交含有该布图设计的集成电路样品；(四)国务院知识产权行政部门规定的其他材料。《实施细则》第十三条对布图设计复制件或图样的电子版本作出规定，提交电子版本的复制件或者图样的，应当包含该布图设计的全部信息。《实施细则》第十三条、第十五条对申请布图设计登记的保密信息做出了规定，布图设计登记申请可以含有保密信息，布图设计在申请日之前没有投入商业利用的，该布图设计登记申请可以有保密信息，其比例最多不得超过该集成电路布图设计总面积的50%。除侵权诉讼或者行政处理程序需要外，任何人不得查阅或者复制该保密信息。

《实施细则》对布图设计公告和登记内容的查阅和复制做出规定。《实施细则》第三十八条规定，国家知识产权局定期在互联网站和中国知识产权报上登载布图设计登记公报，包括布图设计登记簿记载的著录事项。《实施细则》第三十九条规定，布图设计登记公告后，公众可以请求查阅该布图设计登记簿或者请求国家知识产权局提供该登记簿的副本。公众也可以请求查阅该布图设计的复制件或者图样的纸件。对于布图设计的电子版本的复制件或者图样，除侵权诉讼或者行政处理程序需要外，任何人不得查阅或者复制。

（三）布图设计登记的性质

在早期处理侵害布图设计专有权纠纷案件的司法实践中，人们将《条例》所规定的布图设计登记的性质理解为“公开换保护”制度，比如，在昂宝电子（上海）有限公司（以下简称昂宝公司）诉南京智浦芯联电子科技有限公司（以下简称智浦芯联公司）侵害布图设计专有权纠纷一案中，法院认定，以复制件或图样为准确定布图设计专有权的保护内容，符合布图设计专有权制度以公开换保护的原则精神。[10]

随着审理侵害布图设计专有权纠纷案件的深入，人们对布图设计登记的性质认识发生了转变。具体为：从上述布图设计登记规定的内容看，登记仅是将布图设计的权利人、布图设计的名称、登记号等信息记载在国家知识产权局对外公开的登记簿上，换句话说，申请人经登记取得布图设计登记证书后，该登记证书仅能证明其申请登记的布图设计获得了国家授权，但登记证书并未记载布图设计的内容，即对布图设计进行登记公告的内容，并不包括布图设计本身。同时，对未投入商业利用的布图设计来说，权利人对该布图设计进行登记时，还可以将不超过50%部分的布图设计作为保密信息进行封存，除侵权诉讼或者行政处理程序需要外，任何人对该保密信息部分的布图设计不得查阅或者复制，但该部分布图设计仍属于登记布图设计的组成部分，受布图设计专有权保护。如此一来，虽然登记是取得布图设计专有权的必备条件，但登记并不能对布图设计起到公示的作用。

正因为布图设计登记对社会公众无法起到公示作用，故在处理侵犯布图设计专有权纠纷案件的司法实践中，权利人为了证明其在国家知识产权局登记的布图设计的具体内容，通常会向受理案件的法院申请调取其在国家知识产权局登记的布图设计。收到当事人调取布图设计的申请后，北京市以外的受案法院通常由两名办案人员到国家知识产权局以复制方式调取登记的布图设计，需要花费较大的人力、物力和财力。

三、侵害布图设计专有权应以接触为要件分析

（一）公示权利边界的知识产权侵权不以接触为要件

民事权利公示是指权利的设立和变动事实，必须要通过一定的公示方法向社会公开，从而使社会公众知晓权利的变动情况，以避免社会公众遭受损害并维护交易安全。根据公示制度，社会公众可以直接从外部认识权利的主体及权利边界，从而使民事权利法律关系清晰透明。根据权利边界是否向社会公众公示，可以将知识产权分为两类，一类为公示性的知识产权，比如，专利权和商标权；一类为非公示性的知识产权，比如，著作权。

专利权是国家根据发明人或设计人的申请，向社会公众公开发明创造的内容，该发明创造对社会具有符合法律规定的利益，并根据法定程序在一定期限内授予发明人或设计人的一种排他性智力成果权利。[11]当发明创造、外观设计符合授予条件的，由国家知识产权局作出授予专利权的决定，发给专利证书，同时予以登记和公告，专利权自公告之日起生效。商标权是指民事主体享有的对核定使用在特定商品或服务上用以区分商品或服务来源为目的排他性财产权利。[12]在我国由于商标权的取得实行注册原则，因此商标权是因民事主体申请，经国家知识产权局确认的专有权利。申请注册的商标符合商标法规定的，由国家知识产权局初步审定，予以公告，公告期满三个月无人提异议的，予以核准注册，发给商标证，并予以公告。专利权和商标权作为类型化绝对权，通过授权机关登记公告的方法将其权利边界予以公开，当权利受到侵害时，权利人只需拿出授权证书就可以证明其权利边界，无须像布图设计专有权人那样向受案法院申请去调取登记的权利客体。对社会公众来说，通过查询授权登记公告的内容，就可以知道专利权和商标权的保护范围，从而尽量避免在市场交易活动中进入其权利范围构成侵权被追究责任的情形。由上可见，专利权和商标权均为通过公告进行公示的知识产权，公示即意味着社会公众基于该权利公开的外观知晓其权利的保护范围，当这两类权利受到侵害时，权利人无须举证证明被控侵权人接触了其权利客体。

（二）非公示权利边界的知识产权侵权须以接触为要件

著作权是民事主体依法对作品及相关客体所享有的专有权利。根据著作权法的规定，著作权在作品创作完成后自动取得，作品创作完成日即为著作权取得日，著作权的取得无须向有关部门申请并经授权公告取得，换句话说，著作权的取得不像专利那样需要公开技术方案，并经国家主管机关授权公告取得，或者像商标权那样向有关国家机关申请注册，并经审核后通过授权公告取得。

著作权人可以根据自己的意愿决定是否进行作品的著作权登记，登记不是取得作品著作权的条件，登记仅为推定登记的著作权人享有著作权的证据，允许社会公众通过举出相反证据推翻该登记推定的事实。比如，根据《计算机软件著作权登记办法》的规定，申请软件著作权登记的，需提交该软件前后30页的源代码及文档；软件著作权登记时，申请人可以申请将源程序、文档或者样品进行封存，除申请人或司法机关外，任何人不得启封。[13]可见，进行著作权登记的软件处于非公开状态。当他人未经许可擅自复制、修改、传播软件著作权人的源代码时，软件著作权人通常依据著作权作为请求权基础来追究侵权人的法律责任。同时，由于源代码处于非公开状态，软件著作权人也可以根据反不正当竞争法保护商业秘密的法律规范，将源代码作为技术秘密，来追究行为人非法获取、披露、使用其源代码的行为。软件著作权人无论采用著作权还是技术秘密来保护其源代码，均采用“接触加相似”的举证证明方法，以适应软件作品非公开状态的法律属性。[14]换句话说，软件登记的法律意义仅为证明权利人拥有软件著作权的初步证据，即证明享有软件著作权，但登记并不能起到对软件代码进行公开公示的作用，即社会公众不能通过软件登记知悉软件代码的具体内容，在这种情况下，软件著作权人只有证明被控侵权人接触了其软件，并在后抄袭了软件代码，才能证明被控侵权人侵害了其软件著作权。

（三）侵害布图设计专有权应以接触为要件

通过前文分析可见，公示权利边界的知识产权侵权不以举证被控侵权行为人接触为要件，而非公示权利边界的知识产权侵权须以举证被控侵权人接触为要件。与著作权在作品创作完成后无须履行登记手续即自动取得权利相比，布图设计专有权必须要在布图设计创作完成后履行登记手续才能取得。与专利权通过公开换保护并对权利的保护范围进行登记相比，布图设计专有权的取得虽以登记为必备条件，但登记仅为对布图设计的内容进行确定与固定，并不能起到对布图设计进行公示的作用。如此一来，布图设计专有权与著作权和专利权均存在着差异，但其比较靠近著作权的属性。从布图设计专有权登记取得的形式要件及登记的作用来看，其在性质上属于非公示权利边界的知识产权类型，鉴于此，判定侵害布图设计专有权须以举证证明被控侵权人接触了权利人的布图设计为要件，如果权利人不能举证该接触要件成立，则无法证明被控侵权人构成侵权。《条例》第二十三条第（三）项规定，对自己独立创作的与他人相同的布图设计进行复制或者将其投入商业利用的，可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬。该条规定表明，被控侵权人在未接触权利人的布图设计的情况下，可以通过独立研发与他人相同的布图设计进行商业利用，该行为属于合法行为，不构成对他人布图设计专有权的侵害。

在处理侵害布图设计专有权纠纷案件的实务中，适用接触加实质性相似原则的具体方法为，权利人指控被控侵权人侵害其布图设计专有权，必须举证证明其创作或受让了布图设计，并在国家知识产权局进行了布图设计登记（或者证明其为布图设计的继受权利人），而被控侵权人接触了该布图设计，被控侵权的布图设计与权利人的布图设计相比，二者相同或实质性相同，被控侵权人的行为没有合法依据，据此人民法院可以依法判定被控侵权人侵犯了权利人的布图设计专有权。

四、侵害布图设计专有权的接触举证证明方法

侵害布图设计专有权的接触包括直接接触和推定接触两种。所谓直接接触是指实际接触，即权利人举证证明在被控侵权行为发生前被控侵权人实际接触了权利人的布图设计,比如，权利人举证证明被控侵权人直接将含有其布图设计的载体拿走，或者通过接收权利人跳槽员工的方式，直接接触权利人的布图设计。在赛芯公司诉裕昇公司、户财欢、黄建东、黄赛亮侵害布图设计专有权纠纷一案中，[15]赛芯公司举证证明裕昇公司通过接收其跳槽员工户财欢而接触了其布图设计，从而实施了复制和商业利用侵权行为。在珠海市矽旺半导体有限公司（以下简称矽旺公司）诉深圳市芯智锐光电科技有限公司（以下简称芯智锐公司）、何叶侵害布图设计专有权纠纷一案中，[16]矽旺公司举证证明其高管李晨华负责公司布图设计管理工作，拥有公司最高内部系统权限,何叶是芯智锐公司的法定代表人，李晨华与何叶系夫妻关系，芯智锐公司据此可接触涉案布图设计，以此证明芯智锐公司构成对其布图设计的复制和商业利用侵权。

所谓推定接触多为布图设计被不特定的主体接触，而被控侵权人是不特定主体中的一员，比如，权利人举证证明，其布图设计芯片产品在先上市，而被控侵权人作为潜在买家中的一员，其有条件购买该芯片产品，从而有可能接触涉案布图设计。在苏州赛芯电子科技股份有限公司（以下简称赛芯公司）诉富满微电子集团股份有限公司（以下简称富满微公司）侵害布图设计专有权纠纷一案中，[17]法院认定，布图设计登记是产生布图设计专有权的前提，而不具有公开布图设计内容的性质。在布图设计已经获得登记取得专有权的情况下，对布图设计的侵权认定类似著作权侵权的认定思路，而无法采用与专利侵权认定相同的规则。即使在被诉侵权芯片与布图设计构成相同或实质相同时，也要考虑被控侵权人是否具有接触布图设计的可能性，即布图设计的侵权认定采取接触加相同或实质相同的判断方法。其中，接触是指权利人应举证证明被控侵权人在被控侵权行为发生前，具有接触涉案布图设计的可能性，而不要求其对已经发生实际接触进行举证。本案中，涉案布图设计在进行登记前已经投入商业使用，使用涉案布图设计的产品在相关市场销售。被控侵权人制造、销售的芯片复制了涉案布图设计，却没有提供其使用的布图设计的来源，据此认定被控侵权人满足接触可能性的条件。

在处理侵害布图设计专有权纠纷案件中，如果权利人未能举证证明被控侵权人接触了其要求保护的布图设计，或者被控侵权人能举证证明权利人指控其侵权的布图设计是自己独立设计的，并非抄袭自权利人，则被控侵权人的行为不构成对权利人布图设计专有权的侵犯。

五、修改《条例》中的布图设计登记制度的建议

通过以上论述可见，《条例》关于布图设计登记制度的规定存在着一些亟需改进的地方，为了更好地鼓励、保护、促进布图设计技术创新，推动我国芯片产业稳步发展，有必要对《条例》规定的布图设计登记制度进行修改，具体建议如下：

根据《条例》规定，只有具有独创性的布图设计才受到专有权的保护，申请人作为布图设计的创作者，其在通常情况下应当知道其在进行布图设计创作时常规的布图设计是什么？其创作的布图设计与常规设计相比独创性在哪里？该部分为何具有独创性？鉴于此，在进行布图设计登记时，应要求申请人明确指出其布图设计的独创性部分并具体说明理由。上述做法的好处是，当发生布图设计侵权纠纷案件时，由于登记的布图设计的独创性部分已经固定并附有说明理由，权利人很容易举证布图设计的独创性内容；同时，如果被控侵权人认为其不构成侵权，也有利于被控侵权人有针对性地抗辩并举证其不构成侵权的理由。对于处理案件的执法机关来说，由于双方举证效率提高，办案效率亦会相应提高。

集成电路布图设计更新速度非常快，当前的布图设计尺寸已进入纳米级，可以说，布图设计已进入相当精细化的程度。但目前作为布图设计登记载体的纸质件或图样受其自身条件的限制，已无法适应布图设计越来越精细化的要求，此时如果依靠布图设计的纸质件或图样，是无法清楚确定登记的布图设计的完整内容的，从而给划定布图设计专有权的边界带来困扰。[18]在国家知识产权局行政执法查处的首例侵害布图设计专有权一案中，请求人无锡新硅微公司登记的布图设计的纸质件、图样不清楚，该请求人最终选择以登记的布图设计芯片样品剖片所反映的布图设计作为基础来确定专有权保护范围的依据。国家知识产权局在该案的行政处理决定中采用“以纸质件或图样为基础，以布图设计样品为补充”的方法来解决布图设计专有权边界认定存在的上述问题。[19]在目前互联网和电子技术飞速发展的背景下，为了更好地发挥布图设计登记制度的作用，应对原有的布图设计登记以纸质件或图样作为专有权保护范围的依据，改变为申请布图设计登记应提交清晰的电子版布图设计，并以电子版布图设计作为专有权保护范围的依据，从而有利于克服目前登记制度出现的弊端。以先进的电子技术作为布图设计登记的方法，取代传统的以纸质件或图样作为布图设计登记的方法，有利于提高登记的布图设计的清晰度，从而较好处理侵害布图设计专有权纠纷案，为我国芯片技术和产业的发展保驾护航。

注释：

1.“美国占据全球芯片市场54%份额，中国大陆占比仅占4%”,载https://www.mbahome.com/shichang/2022/0407/47120.html,2023年8月25日访问。

2.“2022年美国芯片份额48%，是中国大陆的7倍，研发投入是大陆2.5倍”，载https://baijiahao.baidu.com/s?id=1765282555761792932&wfr=spider&for=pc,2023年8月26日访问。

3.“2021年全球半导体厂商TOP10榜单发布，三星超越英特尔登顶”，载https://new.qq.com/rain/a/20220123A017J600,2023年8月26日访问。

4.“2022年世界半导体产业前十大企业排名”，载https://www.sensorexpert.cn/article/156069.html，2023年8月27日访问。

5.“2021年全球主要国家/地区半导体产业全方位对比”，载https://baijiahao.baidu.com/s?id=1703509763899358700=spider&for=pc，2023年8月27日访问。

6.“2022年全球芯片规模为5735亿美元，中国进口了其中的72.5%？”，载https://baijiahao.baidu.com/s?id=1757519604510051891&wfr=spider&for=pc，2023年8月27日访问。

7.参见广东省深圳市中级人民法院（2012）深中法知民初字第398号民事判决书、广东省高级人民法院（2019）粤知民终1号民事判决书。

8.参见广东省深圳市中级人民法院（2015）深中法知民初字第1106号民事判决书、最高人民法院（2019）最高法知民终490号民事判决书。

9.祝建军：“对集成电路布图设计专有权司法保护有关问题的思考”，载《知识产权》2016年第9期。

10.参见江苏省南京市中级人民法院（2013）宁知民初字第43号民事判决书、江苏省高级人民法院（2013）苏知民终字第0180号民事判决书、最高人民法院（2015）民申字第785号民事判决书。

11.王迁：《知识产权法教程》（第七版），中国人民大学出版社2021年版，第337-338页。

12.文学：《商标使用与商标保护研究》，法律出版社2008年版，第10-14页。

13.参见《计算机软件著作权登记办法》第九条、第十条、第十二条、第十三条。

14.祝建军：“开源软件的著作权保护问题研究”，载《知识产权》2023年第3期。

15.参见广东省深圳市中级人民法院（2015）深中法知民初字第1106号民事判决书、最高人民法院（2019）最高法知民终490号民事判决书。

16.参见广东省深圳市中级人民法院（2019）粤03民初189号民事判决书、最高人民法院（2020）最高法知民终1970号民事判决书。

17.参见广东省深圳市中级人民法院（2019）粤03民初842号民事判决书。

18.祝建军：“集成电路布图设计登记备案制度存在的问题与解决”，载《知识产权》2019年第9期。

19.参见国家知识产权局集成电路布图设计行政执法委员会“集侵字[2017]001号”行政处理决定书。