布图设计受商业秘密保护的条件

【案号】

（2014）深宝法审监刑再字第1号

（2016）粤03刑终372号

【裁判要旨】

对于已备案登记且芯片已投入商业利用的集成电路布图设计来说，由于社会公众可以向布图设计的登记机关请求查阅该备案登记的纸质版布图设计的复制件或图样，故该备案登记的布图设计由于不具备商业秘密“非公知性”条件中的“非普遍知悉”和“非容易获得”两个具体条件，其不属于商业秘密保护的范畴。

【案情简介】

深圳隆升威公司投入大量资金研发出USB游戏手柄控制芯片技术，被告人许某是该公司的员工，接触了该芯片技术。深圳隆升威公司发现被告人胡某、吴某销售的USB游戏手柄控制芯片技术与其USB游戏手柄控制芯片技术相同，即向公安机关报案。

深圳隆升威公司主张其VL807芯片的非公知技术包括：该芯片中的集成电路布图设计，震动驱动程序和网络驱动程序两个源程序。经司法鉴定，深圳隆升威公司产品与被告人被控侵权产品相比除了面积小之外，有很多一致之处，被控侵权产品的布图设计与深圳隆升威公司VL807芯片的布图设计具有同一性。公安机关委托评估，被告人的行为造成深圳隆升威公司84.3334万元的技术研发损失。

深圳市宝安区人民法院于2010年1月15日作出（2010）深宝法刑初字第354号刑事判决，认定被告人许某、胡某、吴某犯侵犯商业秘密罪，判处相应刑罚和罚金。

宣判后，在法定期限内，三被告人未提出上诉，公诉机关未抗诉，该判决发生法律效力。

判决生效后，胡某向广东省高级人民法院提出申诉，广东省高级人民法院于2013年9月22日作出（2012）粤高法审监刑再字第2号刑事裁定：撤销（2010）深宝法刑初字第354号刑事判决，发回深圳市宝安区人民法院重审。

深圳市宝安区人民法院另行组成合议庭审理本案，并于2015年12月28日作出（2014）深宝法审监刑再字第1号刑事判决，认定被告人许某、胡某、吴某犯侵犯商业秘密罪，判处相应刑罚和罚金。

许某、胡某、吴某均不服向深圳市中级人民法院提出上诉。深圳市中级人民法院二审审理中，被害人隆升威公司向法院提交了《集成电路布图设计登记证书》，登记证书显示，深圳隆升威公司于2008年3月9日向国家知识产权局申请了名称为“VL807”的布图设计，该布图设计于2008年4月28日获得颁证，登记证书显示，权利人声明其布图设计的创作完成时间为2005年8月16日，布图设计首次投入商业利用日为2006年5月10日。

深圳市中级人民法院二审认为，本案中，被害人深圳隆升威公司VL807芯片的布图设计不属于技术秘密。VL807芯片的驱动程序源程序属于非公知信息，但本案没有证据证明许某将VL807芯片所涉技术秘密泄露给上诉人胡某、吴某。许某、胡某、吴某不存在共同侵犯被害人深圳隆升威公司该技术秘密的行为。二审判决撤销一审判决，改判上诉人许某、胡某、吴某无罪。

【法官评析】

根据我国法律的规定，对集成电路布图设计可以通过布图设计专有权和商标秘密的方式来保护，本案涉及布图设计商业秘密保护的成立条件问题，颇值得研究。

一、集成电路布图设计的备案登记及公示方法

《集成电路布图设计保护条例》对布图设计备案登记做出专门规定，第十六条规定，申请布图设计登记，应当提交：(一)布图设计登记申请表；(二)布图设计的复制件或者图样；(三)布图设计已投入商业利用的，提交含有该布图设计的集成电路样品；(四)国务院知识产权行政部门规定的其他材料。《集成电路布图设计保护条例实施细则》（下称《细则》）第十四条对申请布图设计登记做出了更进一步细化规定。

《细则》对布图设计备案登记内容的查询、公示方法亦做出专门规定，第三十九条规定，公众查阅和复制，布图设计登记公告后，公众可以请求查阅该布图设计登记簿或者请求国家知识产权局提供该登记簿的副本。公众也可以请求查阅该布图设计的复制件或者图样的纸件。本细则第十四条所述的电子版本的复制件或者图样，除侵权诉讼或者行政处理程序需要外，任何人不得查阅或者复制。

《细则》对未投入商业利用的布图设计的保密内容和查询、公示做出特别规定，第十五条规定，涉及保密信息的申请，布图设计在申请日之前没有投入商业利用的，该布图设计登记申请可以有保密信息，其比例最多不得超过该集成电路布图设计总面积的50%。含有保密信息的图层的复制件或者图样页码编号及总页数应当与布图设计登记申请表中所填写的一致。布图设计登记申请有保密信息的，含有该保密信息的图层的复制件或者图样纸件应当置于在另一个保密文档袋中提交。除侵权诉讼或者行政处理程序需要外，任何人不得查阅或者复制该保密信息。

二、集成电路布图设计受商业秘密保护的条件

根据《集成电路布图设计保护条例》及反不正当竞争法的规定，布图设计既可以受专有权保护，也可以按照商业秘密来保护。

所谓商业秘密是指不为公众所知悉、具有商业价值并经权利人采取相应保密措施的技术信息和经营信息。由此可见，商业秘密具有非公知性、保密性和实用性三个构成要件。所谓非公知性是指商业秘密不为该信息领域的人普遍知悉，不是该信息领域的公开或公知的信息，这意味着非公知性应当同时具备“非普遍知悉”和“非容易获得”两个具体条件。根据前述论述，布图设计受商业秘密保护的条件为：

对于已备案登记且芯片已投入商业利用的集成电路布图设计来说，由于社会公众可以向布图设计的登记机关请求查阅该备案登记的纸质版布图设计的复制件或图样，故该备案登记的布图设计由于不具备商业秘密“非公知性”条件中的“非普遍知悉”和“非容易获得”两个具体条件，其不属于商业秘密保护的范畴。

对于已备案登记但芯片未投入商业利用的集成电路布图设计来说，由于该布图设计申请可以有保密层，除侵权诉讼或者行政处理程序需要外，任何人不得查阅或者复制该保密信息，该保密层的布图设计比例可以不超过该集成电路布图设计总面积的50%，所以对该类备案登记的布图设计来说，除非有其他相反证据证明，否则涉及保密层的布图设计属于商业秘密的保护范畴；而非保密层的布图设计由于不具备商业秘密“非公知性”条件中的“非普遍知悉”和“非容易获得”两个具体条件，其不属于商业秘密保护的范畴。

对于未备案登记的集成电路布图设计来说，由于不能按照上述已备案登记布图设计的两类情形来确定其受商业秘密保护的条件，因此，应依据商业秘密成立的一般条件来判断该未备案登记的集成电路布图设计是否是商业秘密。

就本案来说，受害人要求保护的商业秘密分为两类：一类是其已备案登记且芯片已投入商业利用的集成电路布图设计；另一类是计算机软件的源代码。对于受害人要求保护的第一类客体来说，本案查明的事实显示，被害人隆升威公司于2008年3月9日向国家知识产权局申请名称为“VL807”的布图设计，该布图设计于2008年4月28日获得颁证，登记证书显示，权利人声明其布图设计创作完成时间为2005年8月16日，布图设计首次投入商业利用日为2006年5月10日。而本案犯罪嫌疑人实施被控侵权行为的时间为2008年初，该时间与隆升威公司获得涉案布图设计登记证书的时间吻合，这表明，由于该备案登记的布图设计因备案登记可供社会公众查阅，已不具备商业秘密“非公知性”条件中的“非普遍知悉”和“非容易获得”两个具体条件，故其不属于商业秘密保护的范畴，因此，本案的犯罪嫌疑人在该类客体上不可能构成侵犯商业秘密罪。

本案一波三折的裁判过程表明，涉及集成电路布图设计商标秘密的保护是一个非常复杂的问题，弄清楚集成电路布图设计受商业秘密保护的条件，是妥当处理该类案件的前提条件。