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半导体芯片专利技术的创造性
弁言一觞 半导体芯片是近期的热议话题，频频登上“热搜”。这个领域技术创新如“逆水行舟，不进则退”，其中的争议纠纷也引起知产人的关注。借用“逆水行舟”以自勉，笔者用逆向的方式，从半导体芯片的技术效果出发，分析评价专利的创造性。 实证分析 半导体产业常见有三种业界样态： 一、集设计、制造、封装于一体的集成器件制造； 二、为其他芯片制造电路芯片； 三、设计和晶圆（wafer）加工[1]，也就是用光
发布时间：2020.07.27 -
未获中国反垄断审批，英特尔被迫放弃54亿美元半导体收购并支付3.53亿美元分手费
2023年8月17日，英特尔宣布终止收购以色列半导体代工厂高塔半导体（Tower Semiconductor），原因是无法及时获得合并协议所要求的监管批准。 根据合并协议的条款，英特尔将向高塔半导体支付3.53亿美元的终止费，这完全抵消了英特尔代工服务（简称 IFS）部门在2023年第二季度获得的2.32亿美元营收。 高塔半导体创立于1993年，总部位于以色列，是一家致力于半导体制造的纯粹的独立
发布时间：2023.08.18 -
首起由NPE提起的半导体专利的诉讼到达UPC
在法国巴黎起诉ARM集团。这两起诉讼都涉及半导体技术。 在UPC启动之前，专家们预计由NPE的提起的诉讼数量会特别大。然而，在前七个月，这些NPE公司特别不愿向新法院提起诉讼。 今年1月初，专注于授权业务的美国网络系统技术公司起诉德州仪器、奥迪和大众侵犯其EP 1875 683、EP 1552 669和EP 1552 399专利(案件编号:ACT_597692/2023、ACT_597691/2023
发布时间：2024.02.01 -
首尔半导体在欧洲发起专利诉讼
首尔半导体3月5日宣布，已向欧洲统一专利法院对全球零售商亚马逊提起专利诉讼，寻求禁止销售LED侵权产品。 首尔半导体及其关联公司在过去五年中已在美国、德国、法国和荷兰获得了15项针对侵权制造商和销售商的禁令，但在这些国家/地区提起诉讼一直很麻烦。 然而，随着2023年6月欧洲统一专利法院成立，对欧洲专利诉讼拥有一般管辖权，首尔半导体能够通过一次诉讼同时禁止销售分布在整个欧洲地区的侵权产品。 统一
发布时间：2024.03.08 -
别了，摩尔定律——半导体行业将发布以应用为导向的新路线图
自上世纪60年代起推动信息技术革命的原则——摩尔定律正走向终结。 下个月，全球半导体行业将正式承认对涉及其中的每个人来说都日趋明显的事情：自上世纪60年代起推动信息技术革命的原则——摩尔定律正走向终结。 作为一种控制计算的经验法则，摩尔定律认为，一颗微处理器芯片上的晶体管数量每两年左右将会翻番。而这通常意味着，芯片的性能也将提升一倍。该定律描述的指数级发展规律将上世纪70年代的第一批原始家用电脑
发布时间：2016.03.03 -
大陆积极发展半导体产业 然进入门槛高挑战也不小
大陆市场对各产业都同时代表着机会与威胁。大陆是全球主要电子制造与出口国，加上本身的市场规 模，大陆每年均需向国外进口大量芯片。根据Bain & Company报导，大陆进口芯片的比率到了2020年将接近全球存储器、逻辑和类比芯片的55%，而在大陆本地生产制造的芯片只占15%，对于缩小供需 之间的差距帮助不大，因此大陆积极提升其在全球半导体产业的地位，提高消费装置与工业设备使用的微处理器和存储器
发布时间：2016.09.13 -
首尔半导体继在德国取得销售禁止令后在日本再次就亿光LED产品达成停售和解
首尔半导体21日声明，其与销售亿光LED产品的贸泽电子在日本达成停止销售和解。 首尔半导体于2018年在日本东京地方法院，对贸泽电子当时正在销售的亿光的LED产品提起了专利侵权诉讼，申请停止销售相关产品。该流通企业在判决前申请和解、并主动停止销售，依此，首尔半导体撤回了起诉。 本次诉讼的核心是有关光输出的专利。这是一项在LED芯片内部加入光反射结构、使得光得以高效输出，提高LED性能的核心
发布时间：2019.02.25 -
2018年全球半导体技术发明专利排行榜（TOP 100）
2018年全球半导体技术发明专利排行榜（前100名） 对2018年公开的全球半导体技术发明专利申请数量进行统计排名，入榜前100名企业主要来自8个国家和地区：日本41家、中国22家、美国18家、韩国9家，德国、荷兰、瑞士和法国分别有4家、3家、2家和1家企业。前三名企业在该领域的专利布局主要围绕半导体芯片、半导体封装、基板、发光元件、晶体管、显示装置、有机材料等技术分布，其中Samsung以
发布时间：2019.04.15 -
日本光刻胶专利简析
光刻胶自1959年被发明以来一直是半导体核心材料，随后被改进运用到PCB板的制造，并于20世纪90年代运用到平板显示的加工制造。在光刻工艺中，光刻胶是利用光化学反应经曝光、显影、刻蚀等工艺将所需要的微细图形从掩膜版转移到待加工基衬底上的有机化合物，是集成电路和平板显示两大产业光刻工艺的重要部分，也是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一。 光刻胶行业具有极高的行业壁垒，因此其行业呈现寡头垄断的局面
发布时间：2020.02.18 -
首尔半导体在英国专利无效诉讼中胜诉，亿光：于德国及美国起诉首尔半导体侵害专利诉讼仍进行中
首尔半导体株式会社 （以下简称“首尔半导体”） 近日宣布，首尔半导体已经在于英国专利法院对亿光电子工业股份有限公司 （以下简称“亿光”） 提起的专利无效的诉讼中取得完胜。英国专利法院根据亿光的自认做出判决，认定亿光的专利无效，同时还命令亿光向首尔半导体支付约 100 万美元的诉讼费用。 该项诉讼最终导致亿光一项涉及 LED 封装散热结构的专利 EP （UK） 1169735专利无效。亿光于
发布时间：2018.02.23
